一般的,真空電鍍工藝包括:真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是選用在真空條件下,在一些鍍金電鍍廠通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方法在塑件表面堆積各種金屬(主要是不銹鋼電鍍)和非金屬薄膜,通過(guò)鍍金電鍍的方法可以得到非常薄的表面鍍層,具有速度快附著力好的性能,但因此報(bào)價(jià)也較高,可以進(jìn)行操作的金屬類型較少,通常用來(lái)作產(chǎn)品的功能性鍍層, 例如作為內(nèi)部屏蔽層運(yùn)用。多見的塑膠產(chǎn)品電鍍技能有兩種:水電鍍和真空離子鍍.
用在不銹鋼電鍍方面的是:真空離子鍍,又稱真空鍍膜.真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種對(duì)比盛行的做法,做出來(lái)的產(chǎn) 品金屬感強(qiáng),亮度高.而相對(duì)其他的鍍膜法來(lái)說(shuō),本錢較低,對(duì)環(huán)境的污染小,現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛選用.
真空電鍍法是在高度真空條件下加熱金屬,使其熔融、蒸發(fā),冷卻后在塑料表面構(gòu)成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。加熱金屬的方法:有運(yùn)用電阻發(fā)作的熱能,也有運(yùn)用電子束的。
一些東莞電鍍廠在對(duì)塑料成品施行蒸鍍時(shí),為了使金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹脂變形,有必要對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。此外,熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。
置待鍍金屬和被鍍塑料成品于真空室內(nèi),選用一些方法加熱待鍍資料,使金屬蒸發(fā)或行進(jìn),金屬蒸汽遇到冷的塑料成品表面凝集成金屬薄膜。
在真空條件下可減少蒸發(fā)資料的原子、分子在飛向塑料成品進(jìn)程中和其他分子的磕碰,減少氣體中的 活性分子和蒸發(fā)源資料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),然后供應(yīng)膜層的致密度、純度、堆積速率和與附著力。通常真空電鍍懇求成膜室內(nèi)壓力等于或低于 10-2Pa,關(guān)于蒸發(fā)源與被鍍成品和薄膜質(zhì)量懇求很高的場(chǎng)合,則懇求壓力更低( 10-5Pa )。
鍍層厚度0.04-0.1um太薄,反射率低;太厚,附著力差,易掉落。厚度0.04時(shí)反射率為90%。