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千屹PVD真空鍍膜工廠(chǎng)介紹蒸發(fā)鍍與濺射鍍工藝的區(qū)別

瀏覽：- 發(fā)布日期：2019-03-27 17:28:54【大中小】

PVD真空鍍膜技術(shù)是常見(jiàn)的鍍膜加工技術(shù)，指在特定真空條件下采用物理方法，將靶材料氣化成氣化分子或電離，在基板材料表面沉積薄膜材料的技術(shù)。用于制備薄膜材料的物質(zhì)被稱(chēng)為 PVD鍍膜材料。濺射鍍膜和真空蒸發(fā)鍍膜是最主流的兩種 PVD 鍍膜方式。

濺射鍍膜是指濺射靶材高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料。靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來(lái)并沉積于基板上制成電子薄膜。由于高純度金屬?gòu)?qiáng)度較低，因此濺射靶材需要在高電壓、高真空的機(jī)臺(tái)環(huán)境內(nèi)完成濺射過(guò)程。真空蒸發(fā)鍍膜是指在真空條件下，通過(guò)蒸發(fā)源加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在基板材料表面來(lái)獲得薄膜的一種技術(shù)。具有簡(jiǎn)單便利、操作方便、成膜速度快等特點(diǎn)，是應(yīng)用廣泛的真空鍍膜技術(shù)。

濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結(jié)合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要真空電鍍加工技術(shù)之一；蒸發(fā)鍍膜簡(jiǎn)單便利、操作方便、成膜速度快。從工藝制造角度上來(lái)看，蒸鍍材料的制造復(fù)雜度要遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于濺射靶材，蒸發(fā)鍍膜常用于小尺寸基板材料的鍍膜。

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