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千屹pvd真空電鍍告訴您什么是金屬濺射鍍膜

瀏覽：- 發(fā)布日期：2019-02-19 17:08:16【大中小】

濺射現(xiàn)象是pvd真空電鍍的一種高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。將欲沉積的材料制成板材──靶，固定在陰極上?；糜谡龑Π忻娴年枠O上，距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10～1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。

pvd真空電鍍金屬放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子，其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發(fā)鍍膜不同，濺射鍍膜不受膜材熔點(diǎn)的限制，濺射化合物膜可用反應(yīng)濺射法。沉積絕緣膜可采用高頻濺射法?；b在接地的電極上，絕緣靶裝在對面的電極上。
高頻電源一端接地，一端通過匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后，高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上。由于電子遷移率高于正離子，絕緣靶表面帶負(fù)電，在達(dá)到動態(tài)平衡時，靶處于負(fù)的偏置電位，從而使正離子對靶的濺射持續(xù)進(jìn)行。pvd真空電鍍采用磁控濺射可使沉積速率比非磁控濺射提高近一個數(shù)量級。

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