現(xiàn)如今普通的五金電鍍加工技術越來越不能滿足電鍍市場的需求,一家東莞電鍍廠家意識到這一點的市場空缺,在原來技術基礎上率先引進了目前市場上很好的濺射鍍膜技術,東莞市千屹真空技術有限公司所采用的電鍍均為通過檢測的“真金”電鍍,不是那種通過化學配方所配的“化學金”。
基片置于正對靶面的陽極上,距靶幾公分。體系抽至高真空后充入 10~1帕的氣體(一般為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,南北極間即發(fā)作輝光放電。放電發(fā)作的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶外表原子磕碰,受磕碰從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏規(guī)模。濺射原子在基片外表堆積成膜。五金電鍍加工中的濺射鍍膜與蒸騰鍍膜不一樣,濺射鍍膜不受膜材熔點的約束,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。
濺射化合物膜可用反響濺射法,行將反響氣體 (O、N、HS、CH等)參加Ar氣中,反響氣體及其離子與靶原子或濺射原子發(fā)作反響生成化合物(如氧化物、氮化物等)而堆積在基片上。堆積絕緣膜可采用高頻濺射法?;b在接地的電極上,絕緣靶裝在對面的電極上。高頻電源一端接地,一端經(jīng)過匹配網(wǎng)絡和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后,高頻電壓不斷改變極性。
等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負半周別離打到絕緣靶上。因為電子遷移率高于正離子,絕緣靶外表帶負電,在到達動態(tài)平衡時,靶處于負的偏置電位,從而使正離子對靶的濺射繼續(xù)進行。采用磁控濺射可使堆積速率比非磁控濺射進步近一個數(shù)量級。